Плазменные установки TETRA-30-LF-PC





Мелкосерийная промышленная установка plasma system TETRA-30-LF с 30 - литровой камерой и компьютерным управлением используется в производственных процессах для: очистки, травления и активации.




Промышленная установка (plasma system) "TETRA-30-LF-РС" с компьютерным управлением для: очистки, активации, травления, нанесения покрытий


Технические характеристики


Технические характеристики:


Plasma etcher TETRA-30-LF-PC


Шкаф распределительного устройства:

Ш 600 mm, В 2.200 mm, Г 850 mm

Камера:

Ш 305 mm, В 300 mm, Г 370 mm
(опционально: D 625 mm)

Объем камеры:

~ 34 литра

Подвод газа:

3 канала подвода газа с электронной регулировкой (MFC)

Генератор:

40кГц/0-1000 Вт
(опционально: 13.56 МГц или 2.45 ГГц)

Комплектация:

до 6 ярусов(до 6 подложек для обрабатываемых образцов)
(опционально: вращающийся барабан)

Управление:

ПК управление(Windows)