Установки и технологические решения для осаждения тонких пленок и травления


Решения компании HHV в области тонких пленок охватывают диапазон гибкого, высокопроизводительного оборудования для травления и нанесения тонких пленок, которое может быть как одиночного исполнения, так и многокамерного кластерного типа и многокамерного линейного типа (in-line) для точного управления процессом для исследований и производства.


CVD Установки

Установки травления

PVD Установки

PECVD и ICP CVD, LPCVD

ICP

PLD

ALD (PE и термическое)

RIE

Распыление (RF/DC/импульсное)

DLC

RIE/PE

Испарение

HWCVD

DRIE

Ионно-лучевое испарение

MOCVD

-

-


Осаждение тонких пленок и системы травления: МЭМС/НЭМС, твердотельное освещение (LED, OLED, PLED), возобновляемые источники энергии, наноэлектроника, фотоника: Буклет на русском языке


Каталог установок нанесения тонких пленок HHV


Кластерные PECVD установки для НАНО Технологий


klasternaja_ustanovka_1.png

- Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его сплавов, диэлектриков, нитридов металлов, оксидов металлов и других материалов
- Индивидуальная рабочая камера соединена с перегрузочной/изоляционной камерой как и загрузочный шлюз
- Перемещение подложек: Магнитный / Роботизированный манипулятор
- Размер подложек: 100 - 150 мм
- Горизонтальное осаждение
- Источники питания: MF/RF/VHF/MW
- Температура подложки до 1000 °С
- Анализ остаточной атмосферы



klasternaja_ustanovka_2.png


klasternaja_ustanovka_3.png

Кластерная PECVD система


PECVD установки проходного типа для промышленного производства


- Проходной процесс, вертикальная конфигурация
- Полная автоматизация
- Обработка двух подложек (1100х1400 мм) в камере
- Время такта 3 минуты
- Равномерность напыления +/- 10%
- Уникальная система напуска газа
- Простота в использовании


pecvd_4.png


PECVD установки проходного типа для НИОКР


- Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его сплавов
- Индивидуальная рабочая камера отделенная изоляционной камерой вместе с шлюзами загрузки/выгрузки
- Размер подложки варьируется в зависимости от требований


pecvd_5.png


Перчаточные боксы для применения в органической электронике


- Камера испарения с источниками для органических материалов
- УФ озоновая очистка
- Нанесение фоторезиста
- Сушка
- Роботизированное нанесение клея
- Нанесение жидкостей и паст
- УФ системы отверждения


perchatochnyj_boks_6.png


Установки RIE/PE


napylitel'naja_ustanovka_rie_re_7.png

Однокамерные установки PECVDс возможностью реактивно-ионного травления


kamera_8.png

Камера с возможностью реактивно-ионного травления


Характеристики

Стандартное значение

Размер камеры

Д 290 мм × В 400 мм

Электрод

ВЧ (водоохлаждаемый)

Подложкодержатель

125 мм

Уровень вакуума

5×10-6 мбар