Установки и технологические решения для осаждения тонких пленок и травления
Решения компании HHV в области тонких пленок охватывают диапазон гибкого, высокопроизводительного оборудования для травления и нанесения тонких пленок, которое может быть как одиночного исполнения, так и многокамерного кластерного типа и многокамерного линейного типа (in-line) для точного управления процессом для исследований и производства.
CVD Установки |
Установки травления |
PVD Установки |
PECVD и ICP CVD, LPCVD |
ICP |
PLD |
ALD (PE и термическое) |
RIE |
Распыление (RF/DC/импульсное) |
DLC |
RIE/PE |
Испарение |
HWCVD |
DRIE |
Ионно-лучевое испарение |
MOCVD |
- |
- |
Каталог установок нанесения тонких пленок HHV
Кластерные PECVD установки для НАНО Технологий
- Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его сплавов, диэлектриков, нитридов металлов, оксидов металлов и других материалов
- Индивидуальная рабочая камера соединена с перегрузочной/изоляционной камерой как и загрузочный шлюз
- Перемещение подложек: Магнитный / Роботизированный манипулятор
- Размер подложек: 100 - 150 мм
- Горизонтальное осаждение
- Источники питания: MF/RF/VHF/MW
- Температура подложки до 1000 °С
- Анализ остаточной атмосферы
Кластерная PECVD система
PECVD установки проходного типа для промышленного производства
- Проходной процесс, вертикальная конфигурация
- Полная автоматизация
- Обработка двух подложек (1100х1400 мм) в камере
- Время такта 3 минуты
- Равномерность напыления +/- 10%
- Уникальная система напуска газа
- Простота в использовании
PECVD установки проходного типа для НИОКР
- Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его сплавов
- Индивидуальная рабочая камера отделенная изоляционной камерой вместе с шлюзами загрузки/выгрузки
- Размер подложки варьируется в зависимости от требований
Перчаточные боксы для применения в органической электронике
- Камера испарения с источниками для органических материалов
- УФ озоновая очистка
- Нанесение фоторезиста
- Сушка
- Роботизированное нанесение клея
- Нанесение жидкостей и паст
- УФ системы отверждения
Установки RIE/PE
Однокамерные установки PECVDс возможностью реактивно-ионного травления
Камера с возможностью реактивно-ионного травления
Характеристики |
Стандартное значение |
Размер камеры |
Д 290 мм × В 400 мм |
Электрод |
ВЧ (водоохлаждаемый) |
Подложкодержатель |
125 мм |
Уровень вакуума |
5×10-6 мбар |