Плазменные установки FEMTO UHP (Ultra High Purity - Ультра-высокая чистота)
1,9 литра лабораторная установка plasma system FEMTO UHP (Ultra High Purity - Ультра-высокая чистота) с полуавтоматическим управлением применяется в следующих областях:
- Малосерийное производство
- Аналитика (REM, TEM)
- Медицинская техника
- Стерилизация
- Научно-исследовательские работы
- Археология
- Текстильное производство
- Полупроводниковые технологии
- Технологии обработки искуcственных материалов
Плазменная система plasma system FEMTO UHP не имеет стальной плазменной камеры, что позволяет использовать плазму, где содежание хрома, никеля или железа в течение плазменной обработки недопустимо. Металлическая камера заменена на стеклянную или кварцевую со специальными фланцами.
Все Плазменные установки (plasma system) могут комбинироваться в самых различных вариантах исполнения. Следующая информация освещает наиболее часто используемые варианты Плазменных установок (plasma system).
|
Plasma systemFEMTO UHP(модель 6)
Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
|
 |
|
Технические характеристики:
|
Plasma etcher Femto UHP
(модель 6)
|
|
Шкаф распределительного устройства:
|
Ш 345 mm, В 220 mm, Г 420 mm
|
|
Камера:
|
Ø 95 mm, Г 270 mm, Входное окно 90 mm
|
|
Материалы:
|
Кварц или боросиликатное стекло. Передняя и задняя части камеры (фланцы) выполнены из алюминия
|
|
Объем камеры:
|
~ 1,9 литра
|
|
Подвод газа:
|
1 регулятор расхода газа с игольчатым клапаном
|
|
Генератор:
|
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
|
|
Вакуумный насос:
|
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
|
|
Комплектация:
|
Подложка для обрабатываемых образцов– 1 шт.
|
|
Управление:
|
Ручное, время устанавливается таймером
|
|
|
Plasma system FEMTO UHP (модель 7)
Исследовательские работы, очистка, активация, травление (порт с дверцей на шарнирах)
|
 |
|
Технические характеристики:
|
Plasma etcher Femto UHP
(модель 7)
|
|
Шкаф распределительного устройства:
|
Ш 560 mm, В 310 mm, Г 600 mm
|
|
Камера:
|
Ø 95 mm, Г 270 mm, Входное окно 90 mm
|
|
Материалы:
|
Кварц или боросиликатное стекло. Передняя и задняя части камеры (фланцы) выполнены из алюминия
|
|
Объем камеры:
|
~ 1,9 литра
|
|
Подвод газа:
|
1 регулятор расхода газа с игольчатым клапаном
|
|
Генератор:
|
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
|
|
Вакуумный насос:
|
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
|
|
Комплектация:
|
Подложка для обрабатываемых образцов – 1 шт.
|
|
Управление:
|
Ручное, время устанавливается таймером
|
|
|
Plasma system FEMTO UHP (модель 8)
Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
|
 |
|
Технические характеристики:
|
Plasma etcher Femto UHP
(модель 8)
|
|
Шкаф распределительного устройства:
|
Ш 562 mm, В 211 mm, Г 420 mm
|
|
Камера:
|
95 mm, Г 270 mm,
Входное окно 90 mm
|
|
Материалы:
|
Кварц или боросиликатное стекло. Передняя и задняя части камеры (фланцы) выполнены из алюминия
|
|
Объем камеры:
|
1,9 литра
|
|
Подвод газа:
|
2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами
|
|
Генератор:
|
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
|
|
Вакуумный насос:
|
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
|
|
Комплектация:
|
Подложка для обрабатываемых образцов – 1 шт.
|
|
Управление:
|
Ручное, время устанавливается таймером
|
|
Датчик давления:
|
Pirani
|
|
|
Plasma system FEMTO-PC UHP (модель 9)
Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
|
 |
|
Технические характеристики:
|
Plasma etcher Femto UHP
(модель 9)
|
|
Шкаф распределительного устройства:
|
Ш 562 mm, В 460 mm, Г 550 mm
|
|
Камера:
|
95 mm, Г 270 mm,
Входное окно 90 mm
|
|
Материалы:
|
Кварц или боросиликатное стекло. Передняя и задняя части камеры (фланцы) выполнены из алюминия
|
|
Объем камеры:
|
~ 1,9 литра
|
|
Подвод газа:
|
3 канала подвода газа с электроной регулировкой (MFC)
|
|
Генератор:
|
40kHz/0-100 W (или: 13,56 МГц, 2,45 ГГц)
|
|
Вакуумный насос:
|
Подложка для обрабатываемых образцов – 1 шт.
|
|
Комплектация:
|
Подложка для обрабатываемых образцов – 1 шт.
|
|
Управление:
|
ПК управление работает с Windows
|
|
|
Plasma system FEMTO UHP (модель 10)
Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
|
 |
|
Технические характеристики:
|
Plasma etcher Femto UHP
(модель 10)
|
|
Шкаф распределительного устройства:
|
Ш 320 mm, В 500 mm, Г 420 mm
|
|
Камера:
|
Ш 95 mm, В 270 mm,
Opening 95 mm
|
|
Материалы:
|
Кварц или боросиликатное стекло. Передняя и задняя части камеры (фланцы) выполнены из алюминия
|
|
Объем камеры:
|
~ 1,9 литра
|
|
Подвод газа:
|
2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами
|
|
Генератор:
|
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
|
|
Вакуумный насос:
|
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
|
|
Комплектация:
|
Подложка для обрабатываемых образцов– 1 шт.
|
|
Управление:
|
Ручное, время устанавливается таймером
|
|
Датчик давления:
|
Pirani
|
|
