Установки быстрого термического отжига XREACT (печи с галогеновым нагревом)
Семейство лабораторных и промышленных печей с галогеновыми нагревателями (установок быстрого термического отжига). Рабочая камера и система подачи изделия изготовлены из кварцевого стекла. Печи данной серии обеспечивают очень быстрый нагрев и охлаждение благодаря высокой плотности энергии. Используются для нагрева в вакууме или в среде высокочистых газов, а также в других контролируемых средах. Могут комплектоваться специальным программным обеспечением для проведения циклических испытаний образцов. Благодаря специальной конструкции нагревателей, камеры и системы подачи объектов достигается высокая равномерность нагрева и точность поддержания заданной температуры.
Установки серии XRACT предназначены для проведения процессов высокосоростной температурной обработки полупроводниковых пластин и других образцов в контролируемой газовой среде или вакууме. В зависимости от требований технологического процесса заказчика может оснащаться различным числом каналов газонапуска, имеются модификации способные работать со cредами взрывоопасных и ядовитых газов. Установки серии XREACT предназначены как для использования в условиях промышленного производста, так и для лабораторных исследований и выпуска пилотных партий.
Основные применения:
- обработка полупроводниковых пластин
- фотоэлектрические технологии
- термообработка высокочистых металлов
- испытания
На примерах ниже представленны отдельные образцы установок данной серии. Характеристики каждой установки, как правило, формируются на основании технического задания заказчика. Спектр предлагаемого к поставке оборудования данной серии и его характеристик может быть значительно шире представленного в примерах.
Пример №1
|
Заказчик |
Лаборатория промышленного предприятия |
|
Максимальная температура |
1200°С |
|
Предельный вакуум |
5 мбар |
|
Скорость нагрева |
До 80 К/с |
|
Максимальный диаметр образцов |
50 mm |
|
Применение |
Циклические термические испытания |
Пример №2
|
Заказчик |
Исследовательcкий институт |
|
Максимальная температура |
1250°С |
|
Предельный вакуум |
1E-5 мбар |
|
Скорость нагрева |
До 100 К/с |
|
Минимальный диаметр образцов |
100 мм |
|
Применение |
Термическая обработка полупроводниковых подложек, мелкосерийное производство |
 |
Опросный лист по термическому оборудованию
Каталог термического оборудования XERION (Германия)