Плазменные установки TETRA-100-LF-РС


Промышленная установка plasma system TETRA-100-LF-РС со 100 - литровой камерой и компьютерным управлением используется в производственных процессах для: очистки, травления и активации.




Plasma system TETRA-100-LF-PC для очистки, активации и травления поверхности в промышленном производстве.


Шестиярусный блок загрузки камеры и вращающийся барабан для систем TETRA (plasma system)




Plasma system TETRA-100-LF-PC для очистки, активации и травления поверхности в промышленном производстве.


Технические характеристики


Технические характеристики:


Plasma etcher TETRA 100-LF-PC


Шкаф распределительного устройства:

Ш 600 mm, В 2.200 mm, Г 800 mm

Камера:

Ш 400 mm, Г 625 mm, В 400 mm

Объем камеры:

~ 100 литров

Подвод газа:

max. 3 канала подвода газа с электронной регулировкой (MFC)

Генератор:

40 кГц / 0 – 2.500 Вт
(опционально: 13.56 МГц или 2.45 ГГц)

Вакуумный насос:

Leybold, тип D40B (40 m³/h)

Комплектация:

До 10 ярусов(до 10 подложек для обрабатываемых образцов)
(опционально: вращающийся барабан)

Управление:

ПК управление (Windows)