Плазменные установки TETRA-150-LF-РС


Производственная установка "Plasma system TETRA-150-LF-РС" с камерой на 150 л и компьютерным управлением применяется для очистки, травления и активации.




Plasma system TETRA-150-LF-PC для очистки, активации и травления поверхности в промышленном производстве.


Шестиярусный блок загрузки камеры и вращающийся барабан для систем TETRA (plasma system)




Plasma system TETRA-150-LF-PC для очистки, активации и травления поверхности в промышленном производстве.


Технические характеристики


Технические характеристики:


Plasma etcher TETRA 150-LF-PC


Шкаф распределительного устройства:

Ш 1000 mm, В 2.100 mm, Г 1000 mm

Камера:

Ш 400 mm, Г 625 mm, В 600 mm

Объем камеры:

~ 150 литров

Подвод газа:

max. 2 канала подвода газа с электронной регулировкой (MFC)

Генератор:

40 кГц / 0 – 2.500 Вт
(опционально: 13.56 МГц или 2.45 ГГц)

Вакуумный насос:

Leybold, тип D65B (65 m³/h)

Комплектация:

До 16 ярусов(до 16 подложек для обрабатываемых образцов)
(опционально: вращающийся барабан)

Управление:

ПК управление (Windows)